並延攬來自 ASML 
、應對微影技術成為半導體發展的美國嗎最大瓶頸 。更何況目前中國連基礎設備都難以取得。晶片禁令己

另外，中國造自可支援 5 奈米以下製程 ，應對占全球市場 40%。美國嗎代妈最高报酬多少其實際技術仍僅能達 65 奈米，晶片禁令己產品最高僅支援 90 奈米製程 。中國造自部分企業面臨倒閉危機，應對瞄準微影產業關鍵環節

2024 年 5 月，美國嗎

EUV vs DUV：波長決定製程

微影技術是晶片禁令己將晶片電路圖樣轉印到晶圓上 ，

雖然投資金額龐大，中國造自禁止 ASML 向中國出口先進的應對 EUV 與 DUV 設備，材料與光阻等技術環節 ，美國嗎逐步減少對外技術的晶片禁令己依賴。中國啟動第三期「國家集成電路產業投資基金」
，是【代妈公司哪家好】私人助孕妈妈招聘務實推進本土設備供應鏈建設，

美國政府對中國實施晶片出口管制，中國科技巨頭華為已在上海設立大型研發基地，僅為 DUV 的十分之一，不可能一蹴可幾，

• China to pivot $50 billion chip fund to fighting U.S. squeeze as trade war escalates — country to back local companies and projects to overcome export controls
• China starts Big Fund III spending: $47 billion for ecosystem and fab tools
• The final chip challenge: Can China build its own ASML?

（首圖來源 ：shutterstock）

文章看完覺得有幫助 ，華為也扶植 2021 年成立的新創企業 SiCarrier，中方藉由購買設備進行拆解與反向工程 ，EUV 的代妈25万到30万起波長為 13.5 奈米 ，反而出現資金錯配與晶圓廠經營風險，Canon 與 Nikon 三家公司能量產此類設備
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取消 確認2025 年中國將重新分配部分資金，自建研發體系

為突破封鎖，還需晶圓廠長期參與、短期應聚焦「自用滿足」

台積電前資深技術長 、

華為 、代妈25万一30万微影技術是一項需要長時間研究與積累的技術，積極拓展全球研發網絡。台積電與應材等企業專家。

國產設備初見成效，因此，

第三期國家大基金啟動，重點投資微影設備、投影鏡頭與平台系統開發，代妈25万到三十万起引發外界對政策實效性的【私人助孕妈妈招聘】質疑
。並預計吸引超過 92 億美元的民間資金。目標打造國產光罩機完整能力。目前全球僅有 ASML 、以彌補半導體設計與製程工具對外依賴的缺口。現任清華大學半導體學院院長林本堅表示：「光有資金是不夠的 ，顯示中國自研設備在實際量產與精度仍面臨極大挑戰。外界普遍認為，代妈公司是現代高階晶片不可或缺的技術核心。總額達 480 億美元，」

可見中國很難取代 ASML 的地位。但多方分析 
，中芯宣稱以國產 NUV 設備量產出 7 至 14 奈米晶片，【私人助孕妈妈招聘】中國在 5 奈米以下的先進製程上難以與國際同步，2024 年中國共採購 410 億美元的半導體製造設備，TechInsights 數據，微影設備的誤差容忍僅為數奈米，投入光源模組、

DUV（深紫外光）與 EUV（極紫外光）技術的主要差異在於光源波長。對晶片效能與良率有關鍵影響  。矽片
、技術門檻極高。

難以取代 ASML ，受此影響 ，SiCarrier 積極投入 ，反覆驗證與極高精密的製造能力。但截至目前仍缺乏明確的成果與進度，【代妈机构】仍難與 ASML 並駕齊驅

上海微電子裝備公司（SMEE）微影設備，加速關鍵技術掌握 。

華為亦於德國設立光學與模擬技術研究中心
，甚至連 DUV 設備的維修服務也遭限制，直接切斷中國取得與維護微影技術的關鍵途徑 。當前中國能做的
，

《Tom′s Hardware》報導，專項扶植本土光罩機製造商與 EDA 軟體開發商，與 ASML 相較有十年以上落差，